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高精度晶圆标记可见光对焦光学系统

产品介绍 系统指标

光刻机精密光刻过程中，通过高低倍可见光对焦光学系统实现晶圆上对准标记的宽视野搜索以及高精度检测成像，提供给图像处理系统，实现定位重复精度达到10nm。对焦光学系统是光刻机实现实时精密定位的核心组件。

a）工作谱段：可见光

b）倍率：30倍和5倍

c）数值孔径NA：≥0.2

d）远心度：≤0.1°

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