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高精度晶圆标记紫外对焦光学系统

产品介绍 系统指标

光刻机精密光刻过程中，通过紫外对焦光学系统实现掩膜板及晶圆对准标记的同步、实时及高精度探测成像，实现掩膜板及被光刻晶圆的精准对位。

a）工作谱段：紫外谱段

b）倍率：≥25倍

c）数值孔径NA：≥0.15

d）远心度：≤0.1°

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